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研磨设计模式之工厂方法模式-4

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作者 正文
   发表时间:2010-06-29  
chjavach 写道
To 2 楼的 TonyLian兄弟:
估计是看到的刚开始还不会排格式时候的内容,那个时候的内容还没有发到IoC/DI,也就是老兄说的依赖注入了。
另外,对于反射,准备写到简单工厂里面,其实是反射+配置文件来实现不修改代码就可以动态实现创建接口对象的功能,后面有机会再发上来


这么说的话,还是顶一个喽~
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   发表时间:2010-07-06  
写的很好,楼主加油。2楼的,你会了,不代表别人都会了。这跟重复轮子一点关系都没,什么逻辑。
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   发表时间:2010-07-20  
意犹未尽,期待楼主的下回分解。
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   发表时间:2010-07-21  
楼主写的很好,很不错。
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   发表时间:2010-10-09  
你要的东西你自己别new,让其他工厂给你,这样可以随意替换工厂里要给出的东西
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   发表时间:2010-10-22  
引用
依赖注入和控制反转是同一概念吗?
        根据上面的讲述,应该能看出来,依赖注入和控制反转是对同一件事情的不同描述,从某个方面讲,就是它们描述的角度不同。依赖注入是从应用程序的角度在描述,可以把依赖注入描述完整点:应用程序依赖容器创建并注入它所需要的外部资源;而控制反转是从容器的角度在描述,描述完整点:容器控制应用程序,由容器反向的向应用程序注入应用程序所需要的外部资源。


感觉这段描述很精彩
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